半导体制造装置、研磨液供给装置、研磨液特性之检测方法、以及半导体装置之制造方法

摘要

【课题】检测研磨液之研磨特性的改变，而持续地维持良好的研磨特性。【解决方法】一种研磨半导体基板表面之制造半导体装置，其包括：研磨前述基板表面的研磨垫；供给研磨液于前述基板表面的研磨液供给装置；以及包含浸渍于研磨液22中之电极(A)24以及电极(B)25的检测装置18；其中检测装置18系从流通于电极(A)24以及电极(B)25之间的电流值或电极间的电位差的改变而检测出研磨液22之特性的改变。