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发明名称
导电膜形成组成物、导电膜及形成彼之方法
摘要
提出一种导电膜形成组成物,其能够以容易且不昂贵的方式形成适用于各式各样电子装置的配线或电极,使用此组成物形成膜之方法,藉此方法形成的导电膜,及包含此膜的配线或电极。一种包含胺化合物和氢化铝之错合物及有机溶剂的导电膜形成组成物施用于底质上,之后对其施以热处理和/或照光,藉此将导电膜制成电极或配线。
申请公布号
TW200307299
申请公布日期
2003.12.01
申请号
TW092108692
申请日期
2003.04.15
申请人
JSR股份有限公司;夏普股份有限公司;国际基盘材料研究所股份有限公司
发明人
横山泰明;松木安生;迫野郁夫;小林和树;竹内安正
分类号
H01B1/12
主分类号
H01B1/12
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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