| 主权项 |
1.一种电浆处理装置,属于具备:收容被处理基板的处理室,及设于上述处理室内,在上述被处理基板发生用以施加所定电浆处理的电浆的机构,及排列复数永久磁铁所形成的磁铁段所构成,设于上述处理室外,于上述处理室内的上述被处理基板周围形成所定多极磁场的磁场形成机构的电浆处理装置,其特征为:藉由变更上述磁铁段的相对性位置,可控制形成在上述处理室内的上述被处理基板周围的多极磁场的强度所构成。2.如申请专利范围第1项所述的电浆处理装置,其中,上述磁铁段形成大约圆筒状。3.一种电浆处理装置,属于具备:收容被处理基板的处理室,及设于上述处理室内,在上述被处理基板发生用以施加所定电浆处理的电浆的机构,及排列复数永久磁铁所形成的磁铁段所构成,设于上述处理室外,于上述处理室内的上述被处理基板周围形成所定多极磁场的磁场形成机构的电浆处理装置,其特征为:上述磁铁段中的至少一部分,如变更磁极方向,可旋转地构成在垂直方向的旋转轴周围。4.如申请专利范围第3项所述的电浆处理装置,其中,上述磁场形成机构,分别朝相反的旋转方向地旋转邻接的上述磁场段所构成。5.如申请专利范围第3项所述的电浆处理装置,其中,上述磁场形成机构,均朝相同方向旋转上述磁铁段所构成。6.如申请专利范围第3项所述的电浆处理装置,其中,上述磁场形成机构,藉由邻接设置的复数上述磁铁段所形成的磁铁段对,形成上述所定多极磁场的一磁极所构成;构成一个上述磁铁段对的复数上述磁铁段,朝相同方向同步地旋转所构成。7.如申请专利范围第3项所述的电浆处理装置,其中,上述磁铁段中,仅隔一个磁铁段,朝所定旋转方向旋转所构成。8.如申请专利范围第3项所述的电浆处理装置,其中,藉由旋转上述磁铁段,可设定成在上述处理室内的上述被处理基板周围形成所定多极磁场的状态,及在上述处理室内的上述被处理基板周围未形成有多极磁场的状态。9.如申请专利范围第3项所述的电浆处理装置,其中磁铁段形成大约圆筒状。10.一种电浆处理装置,属于具备:收容被处理基板的处理室,及设于上述处理室内,在上述被处理基板发生用以施加所定电浆处理的电浆的机构,及排列复数永久磁铁所形成的磁铁段所构成,设于上述处理室外,于上述处理室内的上述被处理基板周围形成所定多极磁场的磁场形成机构的电浆处理装置,其特征为:上述磁场形成机构是由上下地分离所设置的上侧磁场形成机构与下侧磁场形成机构所构成,互相地近接,远离而朝上下方向可移动此些上侧磁场形成机构与下侧磁场形成机构所构成。11.如申请专利范围第10项所述的电浆处理装置,其中,上述磁铁段形成大约圆筒状。12.一种电浆处理装置,属于具备:收容被处理基板的处理室,及设于上述处理室内,在上述被处理基板发生用以施加所定电浆处理的电浆的机构,及排列复数永久磁铁所形成的磁铁段所构成,设于上述处理室外,于上述处理室内的上述被处理基板周围形成所定多极磁场的磁场形成机构的电浆处理装置,其特征为:上述磁场形成机构是由上下地分离所设置的上侧磁场形成机构与下侧磁场形成机构所构成,互相地近接远离而朝上下方向可移动此些上侧磁场形成机构与下侧磁场形成机构;构成可设定成直立状态及倾斜状态。13.如申请专利范围第12项所述的电浆处理装置,其中,上述磁铁段形成大约圆筒状。14.一种电浆处理装置,属于具备:收容被处理基板的处理室,及设于上述处理室内,在上述被处理基板发生用以施加所定电浆处理的电浆的机构,及排列复数永久磁铁所形成的磁铁段所构成,设于上述处理室外,于上述处理室内的上述被处理基板周围形成所定多极磁场的磁场形成机构的电浆处理装置,其特征为:上述磁铁段是朝近接,远离方向可移动地构成于上述处理室。15.如申请专利范围第14项所述的电浆处理装置,其中,上述磁铁段形成大约圆筒状。图式简单说明:第1图是表示本发明的电浆处理装置的一实施形态的概略构成的图式。第2图是表示第1图的电浆处理装置的磁场形成机构的概略构成的图式。第3图(a)~(c)是表示说明第1图的电浆处理装置的磁铁段的旋转动作所用的图式。第4图是表示第1图的电浆处理装置的磁场强度的状态的图式。第5图是表示蚀刻速率的面内分布与磁场之关系的图式。第6图是表示蚀刻速率的面内分布与磁场之关系的图式。第7图是表示蚀刻速率的面内分布与磁场之关系的图式。第8图是表示磁铁段的变形例的构成的图式。第9图是表示磁铁段的旋转动作的变形例的图式。第10图是表示磁铁段的旋转动作的变形例的图式。第11图是表示磁铁段的变形例的构成的图式。第12图(a)(b)是表示磁场形成机构的变形例的构成的图式。第13图(a)(b)是表示磁场形成机构的变形例的构成的图式。第14图(a)(b)是表示磁场形成机构的变形例的构成的图式。 |
