| 主权项 |
1.一种平衡装置,其包括:与具有一轴的一转动元件相关的一可定位元件,其中该可定位元件具有一大体上固定的质量,且其中该可定位元件配置在绕着转动元件之轴的一第一位置;以及一起动装置,其配置成与可定位元件有一段距离,其中该起动装置可操作,以选择地产生一力量,且其中该力量可操作以自第一位置移动该可定位元件至绕着该转动元件之轴的第二位置,以平衡转动元件。2.如申请专利范围第1项的平衡装置,其中可定位元件配置在转动元件之内部。3.如申请专利范围第1项的平衡装置,其中该可定位元件配置在转动元件之外。4.如申请专利范围第1项的平衡装置,其中该可定位元件包括一磁性材料。5.如申请专利范围第4项的平衡装置,其中由起动装置产生的力量包括一磁力,其可操作以自第一位置移动可定位元件至绕着转动元件之轴的第二位置。6.如申请专利范围第1项的平衡装置,其中该可定位元件包括一导电材料。7.如申请专利范围第6项的平衡装置,其中由起动装置产生的力量包括由可操作以自第一位置移动可定位元件至绕着转动元件之轴的第二位置之一涡电流。8.如申请专利范围第1项的平衡装置,其中该可定位元件包括一磁性材料及一导电材料。9.如申请专利范围第1项的平衡装置,其中该起动装置包括一永久磁铁。10.如申请专利范围第1项的平衡装置,其中该起动装置包括一电磁铁。11.如申请专利范围第1项的平衡装置,其另包括与可定位元件接合的一摩擦元件,其中该摩擦元件可操作以阻挡可定位元件自第一位置移动至绕着转动元件之轴的第二位置。12.如申请专利范围第1项的平衡装置,其另包括与可定位元件接合的一磁性掣子,其中该磁性掣子可操作以阻挡可定位元件自第一位置移动至绕着转动元件之轴的第二位置。13.如申请专利范围第1项的平衡装置,其中该起动装置另可操作以决定绕着转动元件之轴的可定位元件之位置。14.如申请专利范围第1项的平衡装置,其中该起动装置藉由测量反电磁势而决定绕着转动元件之轴的可定位元件之位置。15.如申请专利范围第1项的平衡装置,其中该起动装置可选择地自平衡装置上拆卸。16.一种平衡装置,其包括:与具有一轴的一转动元件相关的一可定位元件,其中该可定位元件具有一大体上固定的质量,且其中该可定位元件配置在绕着转动元件之轴的一第一位置;以及一起动装置,其配置成与可定位元件有一段距离,其中该起动装置可操作,以选择地产生一力量,且其中该力量可操作以自第一位置移动该可定位元件至绕着该转动元件之轴的第二位置,以平衡转动元件;其中该起动装置另可操作以决定绕着转动元件之可定位元件之位置。17.如申请专利范围第16项的平衡装置,其中该可定位元件配置在转动元件之内。18.如申请专利范围第16项的平衡装置,其中该可定位元件配置在转动元件之外。19.如申请专利范围第16项的平衡装置,其中该可定位元件包括一磁性材料。20.如申请专利范围第19项的平衡装置,其中由起动装置产生的力量包括一磁力,其可操作以自第一位置移动可定位元件至绕着转动元件之轴的第二位置。21.如申请专利范围第16项的平衡装置,其中该可定位元件包括一导电材料。22.如申请专利范围第21项的平衡装置,其中由起动装置产生的力量包括由可操作以自第一位置移动可定位元件至绕着转动元件之轴的第二位置之一涡电流。23.如申请专利范围第16项的平衡装置,其中该起动装置包括一永久磁铁。24.如申请专利范围第16项的平衡装置,其中该起动装置包括一电磁铁。25.如申请专利范围第16项的平衡装置,其另包括与可定位元件接合的一摩擦元件,其中该摩擦元件可操作以阻挡可定位元件自第一位置移动至绕着转动元件之轴的第二位置。26.如申请专利范围第16项的平衡装置,其另包括与可定位元件接合的一磁性掣子,其中该磁性掣子可操作以阻挡可定位元件自第一位置移动至绕着转动元件之轴的第二位置。27.如申请专利范围第16项的平衡装置,其中该起动装置藉由测量反电磁势而决定绕着转动元件之轴的可定位元件之位置。28.如申请专利范围第16项的平衡装置,其中该起动装置可选择地自平衡装置上拆卸。29.一种力量产生/传动系统,其包括:具有一轴的一转动元件;与具有一轴的一转动元件相关的一可定位元件,其中该可定位元件具有一大体上固定的质量,且其中该可定位元件配置在绕着转动元件之轴的一第一位置;以及一起动装置,其配置成与可定位元件有一段距离,其中该起动装置可操作,以选择地产生一力量,且其中该力量可操作以自第一位置移动该可定位元件至绕着该转动元件之轴的第二位置,以平衡转动元件。30.如申请专利范围第29项的力量产生/传动系统,其中可定位元件配置在转动元件之内部。31.如申请专利范围第29项的力量产生/传动系统,其中该可定位元件配置在转动元件之外。32.如申请专利范围第29项的力量产生/传动系统,其中可定位元件包括一磁性材料。33.如申请专利范围第32项的力量产生/传动系统,其中由起动装置产生的力量包括可操作以自第一位置移动可定位元件至绕着转动轴的第二位置之一磁性力量。34.如申请专利范围第29项的力量产生/传动系统,其中该可定位元件包括一导电材料。35.如申请专利范围第34项的力量产生/传动系统,其中由起动装置产生的力量包括由可操作以自第一位置移动可定位元件至绕着转动元件之轴的第二位置之一涡电流。36.如申请专利范围第29项的力量产生/传动系统,其中该起动装置包括一永久磁铁。37.如申请专利范围第29项的力量产生/传动系统,其中该起动装置包括一电磁铁。38.如申请专利范围第29项的力量产生/传动系统,其另包括与可定位元件接合的一摩擦元件,其中该摩擦元件可操作以阻挡可定位元件自第一位置移动至绕着转动元件之轴的第二位置。39.如申请专利范围第29项的力量产生/传动系统,其另包括与可定位元件接合的一磁性掣子,其中该磁性掣子可操作以阻挡可定位元件自第一位置移动至绕着转动元件之轴的第二位置。40.如申请专利范围第29项的力量产生/传动系统,其中该起动装置另可操作以决定绕着转动元件之轴的可定位元件之位置。41.如申请专利范围第40项的力量产生/传动系统,其中该起动装置藉由测量反电磁势而决定绕着转动元件之轴的可定位元件之位置。42.如申请专利范围第29项的力量产生/传动系统,其中该起动装置可选择地自力量产生/传动系统中拆卸。43.一种用以平衡具有一轴之一转动元件的方法,该方法包括:配置一可定位元件于绕着转动元件之轴的第一位置,其中该可定位元件具有一大体上固定的质量;配置一起动装置于与该可定位元件有一段距离处,其中该起动装置可操作以选择地产生一力量,且其中该力量可操作以自第一位置移动该可定位元件至绕着转动元件之轴的一第二位置;使用起动装置选择地产生该力量;以及自第一位置移动该可定位元件至绕着转动元件之轴的第二位置。44.如申请专利范围第43项的方法,其中配置该可定位元件于绕着转动元件之轴的第一位置包括配置可定位元件于转动元件之内。45.如申请专利范围第43项的方法,其中配置该可定位元件于绕着转动元件之轴的第一位置包括备置该可定位元件于转动元件之外。46.如申请专利范围第43项的方法,其中于可定位元件包括一磁性材料。47.如申请专利范围第46项的方法,其中使用起动装置选择地产生力量包括选择地产生可操作以自第一位置移动可定位元件至绕着转动元件之轴的第二位置的一磁性力量。48.如申请专利范围第43项的方法,其中该可定位元件包括一导电材料。49.如申请专利范围第48项的方法,其中使用起动装置选择地产生力量包括选择地产生由可操作以自第一位置移动可定位元件至绕着转动元件之轴的第二位置的一涡电流造成。50.如申请专利范围第43项的方法,其中该起动装置包括一永久磁铁。51.如申请专利范围第43项的方法,其中该起动装置包括一电磁铁。52.如申请专利范围第43项的方法,其另包括备置与可定位元件接合的一摩擦元件,其中该摩擦元件可操作以阻挡可定元件自第一位置移动至绕着转动元件之轴的第二位置移动。53.如申请专利范围第43项的方法,其另包括备置与可定位元件接合的一磁性掣子,其中该磁性掣子可操作以阻挡可定元件自第一位置移动至绕着转动元件之轴的第二位置移动。54.如申请专利范围第43项的方法,其另包括决定绕着转动元件之轴的可定位元件之位置。55.如申请专利范围第54项的方法,其中决定绕着转动元件之轴的可定位元件之位置包括以测量反电磁势决定绕着转动元件之轴的可定位元件之位置。56.如申请专利范围第43项的方法,其另包括选择地拆卸起动装置。图式简单说明:第1图为说明用于本发明之一转动元件的平衡装置之大体上的构形及操作原则之概略图;第2图为用于本发明之一转动元件的平衡装置之一实施例的横截面图,其中显示该转动元件、一可定位元件以及一起动装置;第3图为用于本发明之一转动元件的平衡装置之另一端视图,其中显示该转动元件及起动装置;第4图为用于本发明之一转动元件的平衡装置之另一实施例的横截面侧视图,其中显示转动元件、数个可定位元件以及一相关固持构造体及起动装置;第5图为显示用于本发明之一转动元件的平衡装置之一实施例的概略图;第6图为用于本发明之一转动元件的平衡装置之一实施例的一端视图,其中显示转动元件、另一种可定位元件以及该起动装置;而第7图为显示本发明之用以平衡具有一轴之一转动元件的一方法之实施例。 |
