| 发明名称 |
Fremgangsmåte for fabrikasjon av höykapasitans flerlags dielektrikum |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
NO20034362(A) |
申请公布日期 |
2003.11.28 |
| 申请号 |
NO20030004362 |
申请日期 |
2003.09.29 |
| 申请人 |
ATMEL CORP |
发明人 |
GOOD, MARK A;KELKAR, AMIT S |
| 分类号 |
H01L21/306;H01L21/314;H01L21/318;H01L21/768;H01L21/8247;H01L27/115;H01L29/788;H01L29/792;(IPC1-7):H01L21/28 |
主分类号 |
H01L21/306 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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