发明名称 TRENCH MOSFET WITH FIELD RELIEF FEATURE
摘要 <p>A trench MOS-gated semiconductor device that includes field relief regions (12) formed below its base (3) to improve its breakdown voltage, and method for its manufacturing.</p>
申请公布号 WO2003098663(P1) 申请公布日期 2003.11.27
申请号 US2003015117 申请日期 2003.05.14
申请人 发明人
分类号 主分类号
代理机构 代理人
主权项
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