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发明名称
TRENCH MOSFET WITH FIELD RELIEF FEATURE
摘要
<p>A trench MOS-gated semiconductor device that includes field relief regions (12) formed below its base (3) to improve its breakdown voltage, and method for its manufacturing.</p>
申请公布号
WO2003098663(P1)
申请公布日期
2003.11.27
申请号
US2003015117
申请日期
2003.05.14
申请人
发明人
分类号
主分类号
代理机构
代理人
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