| 发明名称 |
Process for recognising the end point of etching of a semiconductor, an etching process and apparatus |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2388960(A) |
申请公布日期 |
2003.11.26 |
| 申请号 |
GB20030007540 |
申请日期 |
2003.04.01 |
| 申请人 |
* ROBERT BOSCH GMBH;* ROBERT BOSCH GMBH |
发明人 |
FRANZ * LAERMER;KLAUS * BREITSCHWERDT |
| 分类号 |
H01J37/32;H01L21/00;(IPC1-7):H01L21/302;H01L21/66 |
主分类号 |
H01J37/32 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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