| 发明名称 | 气化器和气化供给装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供即使在减少随CVD原料供给的载气的供给量来进行气化供给时，也能够防止气化室内固体CVD原料的析出和附着，并且能够以所需的浓度和流量极为有效地气化供给的气化器和气化供给装置。制作CVD原料供给部分至少具有CVD原料流路和载气流路，并具备CVD原料的流路产生CVD原料的压力损失的机构的气化器。制作在液体流量控制部分和气化器之间具备产生CVD原料压力损失的机构的气化供给装置。 | ||
| 申请公布号 | CN1458669A | 申请公布日期 | 2003.11.26 |
| 申请号 | CN03123649.9 | 申请日期 | 2003.05.12 |
| 申请人 | 日本派欧尼株式会社 | 发明人 | 高松勇吉;十七里和昭;岩田充弘;桐山晃二;浅野彰良 |
| 分类号 | H01L21/205;C23C16/00 | 主分类号 | H01L21/205 |
| 代理机构 | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人 | 刘激扬 |
| 主权项 | 1.一种气化器，是具有CVD原料的气化室、用于向该气化室供给CVD原料的CVD原料供给部分、气化气体排出口和该气化室的加热机构，其特征在于：该CVD原料供给部分具有至少CVD原料的流路和载气的流路，该CVD原料的流路具备产生CVD原料的压力损失的机构。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||