电抗匹配系统及方法

摘要

一种拥有改进的匹配系统的基片处理系统和方法。用一个匹配控制器(1)来控制多个匹配网络(MNA、MNB、MNC)，从而实现改进的、更为迅捷和稳定的匹配。所述匹配控制器(1)也能够自动设定等离子体激发过程中和紧接着激发之后所需要的初始匹配条件，从而实现更快更可靠的初始匹配，并减少操作人员的介入。所述系统还提供加以改进了的装置来进行更为精确的相位和幅值检测，并对功率检测器(6A、6B、6C)的布局进行了改进。所述匹配网络(MNA、MNB、MNC)中还包括一个用来对匹配网络中的可调元件进行可靠控制的电路，并提供了保护可调元件不受损伤的装置。

主权项

1.一种基片处理系统，包括：一个处理室，在其中处理基片；至少一个射频源；一个第一电学元件，与所述处理室中的某个区域耦合，该第一电学元件接收来自所述至少一个射频源的电能；一个第二电学元件，与所述处理室中的某个区域耦合，该第二电学元件接收来自所述至少一个射频源的电能；一个第一匹配网络，在所述至少一个射频源和所述第一电学元件之间，该第一匹配网络将所述第一电学元件的阻抗与所述至少一个射频源的阻抗进行匹配；一个第二匹配网络，在所述至少一个射频源和所述第二电学元件之间，该第二匹配网络将所述第二电学元件的阻抗与所述至少一个射频源的阻抗进行匹配；一个匹配控制器，连接到所述第一匹配网络和所述第二匹配网络，该匹配控制器用来控制所述第一匹配网络和所述第二匹配网络的操作。