| 发明名称 | 具有高折射率的介电膜及其制备方法 | ||
| 摘要 | 一种具有高的折射率的介电膜，其特征在于：它包括一种包含一种氧化钛(TiO<SUB>x</SUB>，其中1≤x≤2)作为主要组份和另一种金属氧化物(MO<SUB>w</SUB>，其中M是一种金属，例如铌或钽，并且1≤w)作为添加剂组份，并且不含有圆柱形结构的无定形材料。虽然甚至是薄膜形式的氧化钛也有结晶的倾向，然而上述介电膜却以无定形的状态存在，因为加入的上述另一种金属氧化物干扰氧化钛的晶体生长。这种介电膜具有高的折射率，其光学特性随时间的变化较少，并且具有较小的膜张力，因此可以作为一种光学多层膜的组成材料而稳定地使用。 | ||
| 申请公布号 | CN1459036A | 申请公布日期 | 2003.11.26 |
| 申请号 | CN02800717.4 | 申请日期 | 2002.03.05 |
| 申请人 | 日本板硝子株式会社 | 发明人 | 谷中保则;円城寺胜久 |
| 分类号 | G02B5/28;C23C14/08;C23C14/34 | 主分类号 | G02B5/28 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 任宗华 |
| 主权项 | 1.一种构造介电多层膜的高折射介电膜，在介电多层膜中，把具有较高折射率的高折射介电膜与具有较低折射率的低折射介电膜交替地层压在一种透明的底物上，其中高折射介电膜由通过向氧化钛(TiOx：1≤x≤2)中加入另一种金属氧化物(MOw：M代表一种金属，1≤w)而得到的不含有柱状结构的无定形材料制成。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||