发明名称 | 气相沉积 | ||
摘要 | 本发明涉及一种用于将涂层施加到衬底上的方法,其中所述涂层是由至少两种组分或者元素形成的。在一个优选的实施例中,所述涂层是由至少两种金属形成的。根据本发明,在扼流的状态下通过气相沉积施加涂层。 | ||
申请公布号 | CN1458985A | 申请公布日期 | 2003.11.26 |
申请号 | CN01815762.9 | 申请日期 | 2001.07.17 |
申请人 | 科鲁斯技术有限公司 | 发明人 | J·A·F·M·沙德范维斯特鲁姆;J·L·林登;J·F·M·维尔图伊斯 |
分类号 | C23C14/24 | 主分类号 | C23C14/24 |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 温大鹏;黄力行 |
主权项 | 1.一种用于将涂层施加到衬底上的方法,其中,在扼流的状态下将至少第一蒸气和第二蒸气沉积在所述衬底上。 | ||
地址 | 荷兰艾恩德霍芬 |