| 发明名称 | 溅射靶材 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种具有高反射率且耐硫化性优良的溅射靶材，该靶材由Ag合金构成，该合金通过在Ag中添加特定少量的选自In、Sn和Zn的金属成分(A)、特定少量的选自Au、Pd、Pt的金属成分(B)，以及根据情况，添加少量Cu形成合金而成。 | ||
| 申请公布号 | CN1458986A | 申请公布日期 | 2003.11.26 |
| 申请号 | CN02800718.2 | 申请日期 | 2002.03.15 |
| 申请人 | 石福金属兴业株式会社;日本板硝子株式会社 | 发明人 | 长谷川浩一;石井信雄;朝木知美 |
| 分类号 | C23C14/34;C23C14/14;C22C5/06;G11B7/26;G09F9/30;H05B33/10;H05B33/14;H05B33/24 | 主分类号 | C23C14/34 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘元金;庞立志 |
| 主权项 | 1.一种具有高反射率的高耐腐蚀性薄膜形成用溅射靶材，其特征在于，该溅射靶材由Ag合金构成，所述合金在Ag中含有金属成分(A)合计0.1-2.0质量％和金属成分(B)合计0.1-4.9质量％而成，且金属成分(A)和金属成分(B)的合计含量为0.2-5.0质量％，其中，金属成分(A)是选自0.1-2.0质量％的In、0.1-2.0质量％的Sn和0.1-2.0质量％的Zn中的至少一种，金属成分(B)是选自0.1-0.9质量％的Au、0.1-4.9质量％的Pd和0.1-0.9质量％的Pt中的至少一种。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||