Procédé pour effectuer l'électrodéposition de l'osmium et bain pour la mise en oeuvre de ce procédé,申请号CH19700015785-传众专利搜索

发明名称	Procédé pour effectuer l'électrodéposition de l'osmium et bain pour la mise en oeuvre de ce procédé
摘要
申请公布号	CH511947(A)	申请公布日期	1971.08.31
申请号	CH19700015785	申请日期	1970.10.26
申请人	INTERNATIONAL NICKEL LIMITED	发明人	MICHAEL NOTLEY,JOHN;BARR,JAMES
分类号	C25C1/20;C25D3/50;(IPC1-7):C23B5/24	主分类号	C25C1/20
代理机构		代理人
主权项
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