| 主权项 |
1.一种阴极射线管,其包含一包括一面板部分之真空封装,一颈部及一用来连接该颈部及该面板之漏斗,一形成于该面板部分的内表面上之磷萤幕及一电子枪其位在该颈部之内并包括一具有一形成于一阴极基底金属的表面上之电子发射材质层的阴极,该电子发射材质层包含:一在该阴极基底金属之上,由硷土金属氧化物所构成的第一层,一第二层,其为一硷土金属氧化物包含重量百分比在0.1至10之间之至少一稀土金属氧化物,该至少一稀土金属氧化物具有一颗粒大小分布,在第二层的上表面的中心45微米45微米的面积处所测得之最大直径超过5微米的颗粒数目为1个或没有,最大直径范围在1微米至5微米之间的颗粒数目为2个至30个,该最大直径被定义为铅直投影至每一颗粒的轮廓之切线至无限的一水平方向上的大小,该第二层被形成在该第一层的表面之上;该阴极基底金属主要是由镍制成且包含至少一还原剂,及该基底金属与该电子发射材质层接触部分的厚度在0.1至0.16mm的范围之内。2.如申请专利范围第1项之阴极射线管,其中该第二层为一硷土金属氧化物层其包含至少一钪氧化物(Sc2O3)及钡与钪复合氧化物,在0.1%至10%重量百分比的范围内。3.如申请专利范围第1项之阴极射线管,其中该至少一稀土金属氧化物为Ba2Sc2O5, Ba3Sc4O9, BaSc2O4,Ba6Sc6O15其中之一者。4.如申请专利范围第1项之阴极射线管,其中该阴极基底金属为杯子形状,该杯子的侧壁的厚度为该基底金属与该电子发射材质层接触的一部分的厚度的1/5至3/5的范围之内。5.如申请专利范围第1项之阴极射线管,其中该至少一还原剂为镁及矽其中之一者。图式简单说明:第1图为一剖面图,其显示一根据本发明的一实施例之阴影罩幕式彩色阴极射线管之整体结构;第2图为一平面图,其显示用作为本发明之彩色阴极射线管的一电子枪的举例性结构;第3图为第2图中之电子枪的主要部分的一放大的部分剖面图;第4图为第3图的一主要部分的一放大的部分剖面图;第5图为一图表其显示以硷土金属氧化物为一参数之阴极射线管的作业特性;第6图为一图表,其显示一基底金属的厚度与成像暖机时间特性间的关系;第7图为本发明的第二层的上表面的中心位置的一45微米45微米的面积上的一电子显微镜照片的一草图,其界定最大直径Dmax;及第8图是一表,其将本发明的第二层的上表面的中心位置的一45微米45微米的面积上的颗粒大小与传统的阴极作比较。 |
