发明名称 封闭式循环电镀装置
摘要 本创作系关于一种封闭式循环电镀装置,尤其系指一种可将电镀用水加以循环使用以减低废水污染,降低处理电镀废液成本之封闭式循环电镀装置。其包含有经由管路加以连接成一封闭回路之一电镀槽、复数个清洗槽及一个蒸发装置,待镀物体经由电镀槽电镀后,依序移送至下一个清洗槽清洗,电镀槽电镀后的电镀废液则流至蒸发装置中将清水部分加以蒸发、冷却后引导至最后一个清洗槽用作清洗液,该清洗液依序经由清洗槽回流至电镀槽,而去除清水后浓度提升之电镀废液则回流至电解槽以用作电镀液使用。
申请公布号 TW563701 申请公布日期 2003.11.21
申请号 TW092205377 申请日期 2003.04.07
申请人 华新科技股份有限公司 发明人 杨正福;陆秀强;威瑟斯 约翰尼斯
分类号 C25D19/00 主分类号 C25D19/00
代理机构 代理人 林镒珠 台北市中山区长安东路二段一一二号九楼
主权项 1.一种封闭式循环电镀装置,其包括一电镀槽、复数个清洗槽及一个蒸发装置;电解槽及复数个清洗槽乃串联设置,且电解槽、清洗槽间设置有将清洗液由清洗槽回流至电解槽之回流管路;电解槽、蒸发装置间设置有分别供电镀废液往复流动之管路;蒸发装置与最后一个清洗槽间设置有将清水流至清洗槽之管路。2.如申请专利范围第1项所述之封闭式循环电镀装置,其中蒸发装置包含有一主桶体,主桶体内部置有一个将主桶体分隔呈上下两区之隔板,隔板中央形成有一蒸发孔,蒸发孔周缘向上形成有筒状之垂直壁,该垂直壁与主桶体之内部上壁面形成有间隙,主桶体下区内部设置有加热器;下区设置有一入液口及排液口,上区设置有排水口。3.如申请专利范围第2项所述之封闭式循环电镀装置,其中蒸发装置主桶体上区于垂直壁外侧环设有冷凝管。4.如申请专利范围第3项所述之封闭式循环电镀装置,其中冷凝管输出端与一压缩机输入端相连,压缩机输出端与加热器输入端相连,加热器输出端与一冷却装置输入端相连,冷却装置输出端与冷凝管输入端相连。5.如申请专利范围第4项所述之封闭式循环电镀装置,其中冷却装置为气冷装置。6.如申请专利范围第4项所述之封闭式循环电镀装置,其中冷却装置为水冷装置。图式简单说明:第一图为本创作之结构示意图。第二图为本创作蒸发装置之结构示意图。第三图为本创作蒸发装置之另一实施例结构示意图。
地址 台北市松山区民生东路三段一一五号十三楼