发明名称 具真空吸引装置之载体
摘要 本创作为有关一种具真空吸引装置之载体,系于载体表面复数收容孔内皆嵌设有一真空吸引装置,且各真空吸引装置之阀座表面为具有透孔,而阀座之容置空间内则设有阀件及阀件下方之弹性元件,而弹性元件底侧则设有与容置空间相连通之抽气孔,当载体上置放有加工材料时,便以真空泵由各抽气孔处进行抽气,而各加工材料所遮住之任一真空吸引装置部位,即因遮住透孔而使空气无法被吸入,而导致阀件被弹性元件顶住无法下降,形成一真空平衡状态,进而产生适当之吸附力量,此时,无加工材料遮盖的真空吸引装置,因其阀件持续受空气吸引,即产生有一压差,而使阀件封闭于抽气孔处,便可使载体中之任一真空吸引装置皆可吸附加工材料或自动进行封闭使用。伍、(一)、本案代表图为:第 六 图(二)、本案代表图之元件代表符号简单说明:1、真空吸引装置11、阀座 1121、容置槽111、座体 1122、通气孔1111、容置空间 12、阀件1112、环形梯肩 13、外止漏垫圈1113、透孔 131、内止漏垫圈1114、环槽 14、弹性元件112、盖体2、载体21、收容孔 211、抽气孔
申请公布号 TW563609 申请公布日期 2003.11.21
申请号 TW092204487 申请日期 2003.03.21
申请人 阳程科技股份有限公司 发明人 黄秋逢
分类号 B25B11/00 主分类号 B25B11/00
代理机构 代理人 江明志 台北市大安区忠孝东路四段一四八号二楼之四
主权项 1.一种具真空吸引装置之载体,系于一载体上为嵌设定位有复数真空吸引装置;其中:该载体表面为设有复数收容孔;以及定位于复数收容孔之真空吸引装置,且各真空吸引装置之阀座表面为设有透孔,而阀座之容置空间内则设有阀件及阀件下方之弹性元件,此弹性元件底侧则设有与容置空间相连通之抽气孔,俾可于载体上置放有加工材料时,透过预设的真空泵由各抽气孔处进行抽气,并使载体中之任一真空吸引装置可自动吸附加工材料或进行封闭使用。2.如申请专利范围第1项所述之具真空吸引装置之载体,其中该阀座表面为设有复数透孔。3.如申请专利范围第1项所述之具真空吸引装置之载体,其中该阀座外径表面为进一步设有环槽,此环槽上为套设有外止漏垫圈。4.如申请专利范围第1项所述之具真空吸引装置之载体,其中该阀件为可呈球体状。5.如申请专利范围第1项所述之具真空吸引装置之载体,其中该阀座为具有座体及封闭于座体底侧端开口之盖体,且盖体内为形成有可收容弹性元件底端之容置槽及较容置槽直径略小之通气孔。6.如申请专利范围第5项所述之具真空吸引装置之载体,其中该阀件下方为具有一内止漏垫圈,且内止漏垫圈为位于弹性元件外侧及盖体之容置槽壁面顶缘。7.如申请专利范围第6项所述之具真空吸引装置之载体,其中该容置空间位于内止漏垫圈略上方壁面为形成有环形梯肩。8.如申请专利范围第1项所述之具真空吸引装置之载体,其中该载体可为转动滚轮、输送装置或作业平台。图式简单说明:第一图 系为本创作之立体示意图。第二图 系为本创作真空吸引装置之立体外观图。第三图 系为本创作真空吸引装置之背面立体外观图。第四图 系为本创作真空吸引装置之立体分解图。第五图 系为本创作真空吸引装置之平面分解图。第六图 系为本创作真空吸引装置无加工材料遮蔽时之局部剖面图。第七图 系为本创作真空吸引装置有加工材料遮蔽时之局部剖面图。第八图 系为本创作之另一较佳实施例之立体示意图。第九图 系为习用中瓦楞轮之立体外观图。
地址 桃园县大园乡溪海村仑顶十六之二十六号
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