| 主权项 |
1.一种在基材上形成涂层之方法,该方法包含将原子化之液态及/或固态形成涂层之材料导入大气压电浆放电及/或自其所得之离子化气流中,及使基材曝露至原子化之形成涂层之材料。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中该形成涂层之材料系藉由直接注射导入。3.根据申请专利范围第1或2项之方法,其中该形成涂层之材料为含矽材料。4.根据申请专利范围第3项之方法,其中该形成涂层之材料系选自二甲基矽氧烷,及具有矽-氢键之矽氧烷。5.根据申请专利范围第1或2项之方法,其中电浆系在含氧气之大气中产生。6.根据申请专利范围第1或2项之方法,其中该形成涂层之材料为有机或有机金属材料。7.根据申请专利范围第6项之方法,其中该形成涂层之材料系选自丙烯酸及全氟烯类。8.根据申请专利范围第1或2项之方法,其中基材包含金属、陶瓷、塑胶、织布或非织布、天然纤维、合成纤维、纤维素材料、及粉末。9.根据申请专利范围第1或2项之方法,其中涂层增加基材之黏性、释离、气体障壁、湿气障壁、导电性与导热性、光学、介电、亲水性、疏水性、及/或亲油性性质。10.一种制造基材之方法,该基材具有根据申请专利范围第1或2项之方法所形成之多层涂层,在该方法中,藉由使该基材重复通过大气电浆光辉放电或藉由使该基材通过串联之大气光辉放电室,而涂敷涂层。11.一种使形成聚合物之材料聚合之方法,该方法包含将形成聚合物之材料原子化,及将原子化之形成聚合物之材料曝露至大气压电浆放电。12.根据申请专利范围第1或2项之方法,其中原子化之液态及/或固态形成涂层之材料之化学性质在所得之形成之涂层中实质上系保留。13.根据申请专利范围第1或2项之方法,其中藉由使用卷轴至卷轴装置连续涂覆基材。14.一种在基材上形成涂层之装置,该装置包含使用时在里面放置基材之产生大气压电浆光辉放电构件、在电浆放电中提供原子化之形成涂层之材料之原子化器、及供应形成涂层之材料至原子化器之构件。15.根据申请专利范围第14项之装置,其中原子化器为超音波喷嘴。16.根据申请专利范围第14或15项之装置,其中基材系固定于卷轴至卷轴装置以使基材能够连续涂覆。17.一种经涂覆之基材,系根据申请专利范围第1或2项之方法所制得。18.根据申请专利范围第17项之经涂覆之基材,其中原子化液态及/或固态形成涂层之材料之化学性质保留于所得之涂层中。19.一种根据申请专利范围第1或2项之方法所形成之经涂覆之基材,该基材系用来作为层合用黏着剂、氧气及/或湿气障壁、或用于有机光放射二极体元件中。图式简单说明:图1显示根据本发明之装置之具体实施例。 |
