| 主权项 |
1.一种非氧化性陶瓷,其系由平均主要粒径为0.1至50毫微米之BN或元素Ti、Zr、Hf、Cr、Mo、W、V、Nb、Ta、Si、Ge和Sn的碳化物、氮化物、硼化物和矽化物族群所组成,且其表面经至少一种-胺基酸涂覆。2.根据申请专利范围第1项之非氧化性陶瓷,选自TiN、ZrN、TiC和SiC。3.根据申请专利范围第1项之非氧化性陶瓷,选自TiN和TiC。4.根据申请专利范围第1项之非氧化性陶瓷,其特征在于其表面经阿金胺基酸涂覆。5.一种制备根据申请专利范围第1项之非氧化性陶瓷的方法,其特征在于由平均主要粒径为0.1至50毫微米之BN或元素Ti、Zr、Hf、Cr、Mo、W、V、Nb、Ta、Si、Ge和Sn的碳化物、氮化物、硼化物和矽化物族群所组成的非氧化性陶瓷,在20至150℃的温度下于水和/或有机溶剂中以至少一种-胺基酸处理之,然后视情况在过滤后乾燥之。6.一种非氧化性陶瓷,其系由平均主要粒径为0.1至50毫微米之BN或元素Ti、Zr、Hf、Cr、Mo、W、V、Nb、Ta、Si、Ge和Sn的碳化物、氮化物、硼化物和矽化物族群所组成,其所含之-ONH4⊕基浓度为50至1000微当量/克非氧化性陶瓷。7.一种制备根据申请专利范围第6项之陶瓷的方法,其特征在于至少一种由平均主要粒径为0.1至50毫微米之BN或元素Ti、Zr、Hf、Cr、Mo、W、V、Nb、Ta、Si、Ge和Sn的碳化物、氮化物、硼化物和矽化物族群所组成的非氧化性陶瓷在20至150℃的温度下以NH3水溶液处理之。8.一种含至少一种根据申请专利范围第1项之非氧化性陶瓷和水/或有机溶剂的悬浮液。9.一种制备根据申请专利范围第8项之悬浮液的方法,其特征在于根据申请专利范围第1项之非氧化性陶瓷是悬浮在水/或有机溶剂中。10.一种制备陶瓷烧结材料和薄层的方法,其特色在于根据申请专利范围第8项之悬浮液在去除分散剂(水和/或溶剂)之前或之后,视情况与其他陶瓷粉末或悬浮液一起加工以获得绿色材料或薄层,然后烧结之。11.根据申请专利范围第10项之方法所获得的陶瓷烧结材料和薄层。 |
