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发明名称 Ausffüllen von Substratvertiefungen mit siliziumoxidhaltigem Material durch eine HDP-Gasphasenabscheidung unter Beteiligung von H¶2¶O¶2¶ oder H¶2¶O als Reaktionsgas
摘要
申请公布号 DE10154346(C2) 申请公布日期 2003.11.20
申请号 DE20011054346 申请日期 2001.11.06
申请人 INFINEON TECHNOLOGIES AG 发明人 KIRCHHOFF, MARKUS
分类号 H01L21/762;(IPC1-7):H01L21/316;H01L21/824 主分类号 H01L21/762
代理机构 代理人
主权项
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