Photosensitive Polymere, diese umfassende Resist-Zusammensetzungen und Verfahren zur Herstellung von Photoresist-Mustern

摘要

Eine Resist-Zusammensetzung schließt einen Photosäure-Erzeuger (PAG) und ein photosensitives Polymer ein. Das photosensitive Polymer schließt ein Comonomer mit einer säure-labilen Substituenten-Gruppe oder einer polaren funktionellen Gruppe und ein Copolymer aus Alkylvinylether und Maleinsäureanhydrid ein. Das Copolymer wird wiedergegeben durch die folgende Struktur: DOLLAR F1 worin k eine ganze Zahl von 3 bis 8 ist und worin X ein tertiärer cyclischer Alkohol mit 7 bis 20 Kohlenstoff-Atomen ist.