| 发明名称 | 光学基片以及用于生产光学基片的方法与设备 | ||
| 摘要 | 为了能减少生产其上要设置一或多层能影响光传播的膜层的光学基片时所需的时间和理想地提供表面应力显著更低的光学基片，本发明说明了应用一种涂布膜层方法和采用这种方法生产的光学基片，其中作为生产的结果，所述膜层的至少一层包括卤素原子或卤素化合物。 | ||
| 申请公布号 | CN1457327A | 申请公布日期 | 2003.11.19 |
| 申请号 | CN00819929.9 | 申请日期 | 2000.12.01 |
| 申请人 | 肖特·格拉斯公司 | 发明人 | S·鲍尔;M·库尔;B·温格林;L·克利普;B·丹尼尔齐克 |
| 分类号 | C03C17/23;C03C17/34;G02B1/11 | 主分类号 | C03C17/23 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 吴亦华 |
| 主权项 | 1.光学基片，它包括：在其上设有一或多层影响光传播的膜层，其中至少一层膜层包括卤素原子或卤素化合物。 | ||
| 地址 | 德国美因茨 | ||