发明名称 全氟化碳的生产方法及其用途
摘要 本发明生产全氟化碳方法的特征在于,在通过有机化合物与氟气接触生产全氟化碳的过程中,有机化合物与氟气在200-500℃温度范围内接触,同时反应体系内的氧气含量被控制在基于反应原料中气体成分的2%(体积)或更低,因而生产出降低了杂质含量的全氟化碳。根据本发明生产全氟化碳的方法,可以得到极度抑制了例如含氧化合物等杂质产生的高纯度全氟化碳。通过本发明方法获得的全氟化碳基本不含有含氧化合物,因此可以在半导体装置生产方法中有效地用作蚀刻或清洁气体。
申请公布号 CN1457332A 申请公布日期 2003.11.19
申请号 CN02800404.3 申请日期 2002.02.21
申请人 昭和电工株式会社 发明人 大野博基;大井敏夫
分类号 C07C19/08;C07C17/10;C09K13/08;C23G5/028 主分类号 C07C19/08
代理机构 北京市中咨律师事务所 代理人 隗永良;刘金辉
主权项 1.一种生产全氟化碳的方法,包括,在以有机化合物和氟气为反应起始原料的生产全氟化碳的过程中,使所述有机化合物与所述氟气在200-500℃接触,同时将反应体系内的氧气含量控制在基于原料气体成分的2%(体积)或更低的范围内,生产降低了杂质含量的全氟化碳。
地址 日本东京