发明名称 |
全氟化碳的生产方法及其用途 |
摘要 |
本发明生产全氟化碳方法的特征在于,在通过有机化合物与氟气接触生产全氟化碳的过程中,有机化合物与氟气在200-500℃温度范围内接触,同时反应体系内的氧气含量被控制在基于反应原料中气体成分的2%(体积)或更低,因而生产出降低了杂质含量的全氟化碳。根据本发明生产全氟化碳的方法,可以得到极度抑制了例如含氧化合物等杂质产生的高纯度全氟化碳。通过本发明方法获得的全氟化碳基本不含有含氧化合物,因此可以在半导体装置生产方法中有效地用作蚀刻或清洁气体。 |
申请公布号 |
CN1457332A |
申请公布日期 |
2003.11.19 |
申请号 |
CN02800404.3 |
申请日期 |
2002.02.21 |
申请人 |
昭和电工株式会社 |
发明人 |
大野博基;大井敏夫 |
分类号 |
C07C19/08;C07C17/10;C09K13/08;C23G5/028 |
主分类号 |
C07C19/08 |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 |
代理人 |
隗永良;刘金辉 |
主权项 |
1.一种生产全氟化碳的方法,包括,在以有机化合物和氟气为反应起始原料的生产全氟化碳的过程中,使所述有机化合物与所述氟气在200-500℃接触,同时将反应体系内的氧气含量控制在基于原料气体成分的2%(体积)或更低的范围内,生产降低了杂质含量的全氟化碳。 |
地址 |
日本东京 |