发明名称 光记录媒体原盘的制作方法
摘要 在本发明中,在根据基底上形成的掩膜形状通过干法蚀刻形成不平坦图案时,进行控制,使掩膜随着干法蚀刻回缩或收缩,不平坦图案的侧壁成为斜面。为了以这种方式进行控制,例如,用树脂材料形成掩膜,用包括氧气的蚀刻气体进行干法蚀刻。最好使用磁性中性粒子环释放等离子体蚀刻机进行蚀刻。
申请公布号 CN1457489A 申请公布日期 2003.11.19
申请号 CN02800326.8 申请日期 2002.02.18
申请人 索尼公司 发明人 河内山彰
分类号 G11B7/26 主分类号 G11B7/26
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 李瑞海;王景刚
主权项 1.一种用以生产光记录媒体原盘的方法,其中,在根据基底上形成的掩膜的形状通过干法蚀刻形成不平坦图案时,进行控制,使掩膜随着蚀刻的进行回缩或收缩,而使不平坦图案的侧壁成为斜面。
地址 日本东京都