| 主权项 |
1.一种用以生产三维零组件之注射模(1),其特征在于:具有至少一沟槽(12)之模具回火用系统(2),该沟槽系任意延伸于该模具可用容积内之两点之间,用以传导一意欲用于使该模具(1)中所含模件(4,8)回火之回火剂,其中至少一模件(4,8)构成一半模之(3a,3b),而于其内形成一模腔(5),及每一沟槽(12)本质上系沿着其整个范围覆盖着一外盖(15)。2.如申请专利范围第1项之注射模(1),其中该沟槽(12)沿着其范围具有变化之宽度及深度。3.如申请专利范围第1项之注射模(1),其中一密封件(16)系安排于二模件(4,8)之间,而于该二模件之间界定该沟槽(12)。4.如申请专利范围第1项之注射模(1),其中该第一模件(8)形成第二模件(4)用之外盖(15)。5.如申请专利范围第1项之注射模(1),其中与该注射模(1)中所安排之热浇口系统有关地安排该沟槽(12)。6.如申请专利范围第1项之注射模(1),其中该模具回火用系统(2)系直接或间接地连接至一包含于射出成形组件中之循环系统。7.一种用以生产三维零组件之注射模(1)之模具回火用系统(2),其特征在于:至少一沟槽(12),其任意延伸于该模具可用容积内之两点之间,用以传导一意欲用于使该模具(1)中所含模件(4,8)回火之回火剂,每一沟槽(12)本质上系沿着其全长覆盖着一外盖(15)。8.一种射出成形组件,其包括一如申请专利范围第1-6项任一项中之注射模(1)。图式简单说明:图1系一注射模之概要横截面图,其包括一根据本发明之模具回火用系统。图2系注射模之一模件之概要顶部平面图,其包括一根据本发明之模具回火用系统。 |
