发明名称 正型放射线感应性树脂组合物
摘要 本发明提供一种不因PED(曝光后显像时间延迟)而发生尺寸变化,且具有高感度、高解像力之正型放射线感应性树脂组合物。此正型放射线感应性树脂组合物,其含有(a)具有酚系羟基之聚合物、烷基乙烯基醚化合物及醇化合物于酸性触媒存在下反应,得到可藉酸之作用分解而对硷性显像液之溶解性增大之聚合物;(b)藉由活性光线或放射线之照射而能产生酸之化合物;以及(c)溶剂。
申请公布号 TW561315 申请公布日期 2003.11.11
申请号 TW089114939 申请日期 2000.07.26
申请人 富士写真胶片股份有限公司 发明人 丹 史郎;藤森 亨
分类号 G03F7/00 主分类号 G03F7/00
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种正型放射线感应性树脂组合物,其特征为包含:(a)令羟基苯乙烯类之聚合物、R1-O-CH=CH2(式中R1为直链、分枝或环状之碳数为1~12个且可具取代基之烷基)及选自一价、二价及三价醇之醇化合物于酸性触媒存在下反应,继而除去该反应副产之分子量1000以下之低分子缩醛化合物所得之可藉酸之作用分解而增大对硷性显像液之溶解性之聚合物,其添加量为不包含溶剂之抗蚀剂的构成成分中之40~98重量%;(b)藉由活性光线或放射线之照射产生酸之化合物;(c)溶剂;以及(d)有机硷性化合物。2.如申请专利范围第1项之正型放射线感应性树脂组合物,其中该聚合物(a)系在将反应副产之分子量1000以下之低分子缩醛化合物除去前或除去后,以有机硷将反应中使用之酸性触媒中和所得者。3.如申请专利范围第1或2项之正型放射线感应性树脂组合物,其中该低分子缩醛化合物之除去,系藉由将溶解有上述聚合物(a)之溶液与该聚合物(a)之负溶媒混合,以使该聚合物(a)沉淀或分离之方法而进行。4.如申请专利范围第1或2项之正型放射线感应性树脂组合物,其中聚合物(a)中分子量1000以下之低分子缩醛化合物之含量为聚合物(a)总重之2重量%以下。5.如申请专利范围第3项之正型放射线感应性树脂组合物,其中聚合物(a)中分子量1000以下之低分子缩醛化合物之含量为聚合物(a)总重之2重量%以下。
地址 日本