发明名称 具有双杂质态接触层之发光二极体
摘要 一种具有双杂质态接触层之发光二极体,包含一基板、形成于该基板上之一发光叠层、形成于该发光叠层上之一双杂质态接触层、以及形成于该接触层上之一透明氧化物导电层。
申请公布号 TW561637 申请公布日期 2003.11.11
申请号 TW091124272 申请日期 2002.10.16
申请人 晶元光电股份有限公司 发明人 欧震;张家荣;徐宸科;井长慧
分类号 H01L33/00 主分类号 H01L33/00
代理机构 代理人
主权项 1.一种具有双杂质态接触层之发光二极体,至少包含:一基板;形成于该基板上之一发光叠层;形成于该发光叠层上,且至少具有一n型与一p型共同存在之一双杂质态接触层;以及形成于该接触层上之一透明氧化物导电层。2.一种具有双杂质态接触层之发光二极体,包含:一绝缘基板;形成于该绝缘基板上之一缓冲层;形成于该缓冲层上之一n型接触层,其中,该n型接触层之上表面包含一第一表面区域与一第二表面区域;形成于该第一表面区域上之一多重量子井发光层;形成于该发光层上之一p型接触层;形成于该p型接触层上,且至少具有一n型与一p型杂质共同存在之一双杂质态接触层;形成于该双杂质态接触层上之一透明氧化物导电层;形成于该透明氧化物导电层上之p型前电极;以及形成于该n型接触层之第二表面区域上之一n型后电极。3.一种具有双杂质态接触层之发光二极体,包含:一n型后电极;形成于该n型后电极上之一n型导电基板;形成于该n型导电基板上之一缓冲层;形成于该缓冲层上之一n型接触层;形成于该n型接触层上之一多重量子井发光层;形成于该发光层上之一p型接触层;形成于该p型接触层上,且至少具有一n型与一p型共同存在之一双杂质态接触层;形成于该双杂质态接触层上之一透明氧化物导电层;以及形成于该透明导电层上之一p型电极。4.依申请专利范围第2项之一种具有双杂质态接触层之发光二极体,其中该绝缘基板包含选自于蓝宝石、LiGaO2.及LiAlO2所构成材料群组中的一种材料。5.依申请专利范围第3项之一种具有双杂质态接触层之发光二极体,其中该n型导电性基板包含选自于GaN、SiC、Si、Ge、AlN、GaAs、InP及GaP所构成材料群组中的一种材料。6.依申请专利范围第2项或第3项之一种具有双杂质态接触层之发光二极体,其中该缓冲层包含选自于AlInGaN系及Ⅱ-nitride系材料所构成材料群组中的一种材料。7.依申请专利范围第2项或第3项之一种具有双杂质态接触层之发光二极体,其中该p型接触层包含选自于GaN、AlGaN及InGaN所构成材料群组中的一种材料。8.依申请专利范围第2项或第3项之一种具有双杂质态接触层之发光二极体,其中该n型接触层包含选自于GaN、AlGaN及InGaN所构成材料群组中的一种材料。9.依申请专利范围第2项或第3项之一种具有双杂质态接触层之发光二极体,其中该多重量子井发光层包含r个氮化铟镓量子井与r+1个氮化铟镓障壁层,使得每一个氮化铟镓量子井上下二侧皆有一氮化铟镓障壁层,其中,r≧1,每一氮化铟镓量子井系由IneGal-eN构成,每一氮化铟镓障壁层系由InfGal-fN构成,且0≦f<e≦1。10.依申请专利范围第1项、第2项或第3项之一种具有双杂质态接触层之发光二极体,其中该双杂质态接触层系包含选自于AlInGaN系材料所构成材料群组中的一种材料。11.依申请专利范围第2项或第3项之一种具有双杂质态接触层之发光二极体,其中该双杂质态接触层之n型杂质包含选自于Si、Ge、Sn、Te、O、S及C所构成材料群组中的一种材料。12.依申请专利范围第2项或第3项之一种具有双杂质态接触层之发光二极体,其中该双杂质态接触层之p型杂质包含选自于Mg、Zn、Be及Ca所构成材料群组中的一种材料。13.依申请专利范围第1项、第2项或第3项之一种具有双杂质态接触层之发光二极体,其中该透明氧化物导电层包含选自于氧化铟锡、氧化铟锌、氧化镉锡、氧化锑锡、氧化锌以及氧化锌锡所构成材料群组中的一种材料。14.依申请专利范围第2项之一种具有双杂质态接触层之发光二极体,其中更包含形成于该n型接触层及该多重量子井发光层之间之一n型束缚层。15.依申请专利范围第3项之一种具有双杂质态接触层之发光二极体,其中更包含形成于该n型接触层及该多重量子井发光层之间之一n型束缚层。16.依申请专利范围第2项之一种具有双杂质态接触层之发光二极体,其中更包含形成于该p型接触层及该多重量子井发光层之间之一p型束缚层。17.依申请专利范围第3项之一种具有双杂质态接触层之发光二极体,其中更包含形成于该p型接触层及该多重量子井发光层之间之一p型束缚层。18.依申请专利范围第14项或第15项之一种具有双杂质态接触层之发光二极体,其中该n型束缚层,系包含AlxGal-xN,其中,0≦x≦1。19.依申请专利范围第16项或第17项之一种具有双杂质态接触层之发光二极体,其中该p形束缚层包含AlzGal-zN,其中,0≦z≦1。20.依申请专利范围第1项、第2项或第3项之一种具有双杂质态接触层之发光二极体,其中该双杂质态接触层是由磊晶成长时共同掺杂至少一n型及一p型杂质而形成。21.依申请专利范围第1项、第2项或第3项之一种具有双杂质态接触层之发光二极体,其中该双杂质态接触层是以小于40℃/min缓慢之降温速率而形成。图式简单说明:图1为一示意图,显示依本发明一较佳实施例具有双杂质态接触层之发光二极体构造;图2为一示意图,显示依本发明又一较佳实施例具有双杂质态接触层之发光二极体构造。
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