| 主权项 |
1.一种真空乾燥装置,其特征为:具备设有排气口之真空小室,真空泵,介由吸引管而连接于前述真空小室之排气口;交流马达,用以驱动该真空泵;设在该交流马达之输入侧之频率变换器;以及,控制装置,可检测真空小室内之真空度,以预先设定之真空度来调整前述频率变换器以变更进入上述交流马达之交流频率。2.一种真空乾燥装置,其特征为:具备设有排气口之有真空小室;真空泵,介由设有开闭阀之吸引管而连接于上述真空小室之排气口;驱动该真空泵之马达;以及控制装置,其可检测真空小室内之真空度,以预先设定之真空度来调整上述开闭阀而改变从上述排气口之排气速度。3.一种真空乾燥装置,其特征为:具备设有排气口之真空小室;真空泵,介由设有开闭阀之吸引管而连接于上述真空小室之排气口;交流马达,用以驱动该真空泵;设在该交流马达之输入侧之频率变换器;以及,控制装置,可检测真空小室内之真空度,以预先设定之真空度来调整前述频率变换器以变更进入上述交流马达之交流频率,以及/或者,以预先设定之真空度来调整上述开闭阀而改变从上述排气口之排气速度。4.一种真空乾燥方法,系将有涂敷含有溶剂之涂敷液之基板载置于真空小室内,在减压下蒸发上述涂敷液中之溶剂之真空乾燥方法,其特征为,包括:将上述真空小室内之压力,减压至比上述涂敷液中之溶媒之蒸发速度急速地昇高之压力稍高之压力之排气速度变更压力为止之溶媒蒸发步骤;及将压力从上述终点压力回到大气压力之大气压力步骤,将在上述空气除去步骤中之排气速度设定成比前述溶媒蒸发步骤中之排气速度较快之速度者。5.如申请专利范围第4项之真空乾燥方法,其中,上述排气速度变更压力系设定在上述涂敷液中之溶媒之蒸汽压以上者。6.如申请专利范围第4或5项之真空乾燥方法,其中,上述终点压力为,在上述溶媒蒸发步骤中,以一定之排气速度实行减压时,设定成压力之减少速度为急速上昇之压力者。图式简单说明:图1为显示本发明真空乾燥装置之一实施形态之概略构成图。图2为显示图1所示之真空乾燥装置之真空小室之概略构成图。图3为显示本发明真空乾燥装置之其他实施形态之概略构成图。图4为显示本发明真空乾燥装置之其他实施形态之概略构成图。图5为显示本发明之真空乾燥方法中之真空小室内之自排气开始起之时间与真空度之关系图。 |
