发明名称 |
PLASMA PROCESSING EQUIPMENT AND PLASMA PROCESSING METHOD |
摘要 |
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申请公布号 |
AU2003235924(A1) |
申请公布日期 |
2003.11.11 |
申请号 |
AU20030235924 |
申请日期 |
2003.05.09 |
申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
TAKAAKI MATSUOKA;SATORU KAWAKAMI;KATSUHIKO IWABUCHI |
分类号 |
H05H1/46;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/511;H01J37/32;H01L21/3065;H01L21/31;H01L21/318;(IPC1-7):H01L21/31;H01L21/306 |
主分类号 |
H05H1/46 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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