| 摘要 |
<p>Bei der Abbildung eines in einer Objektebene eines optischen Abbildungssystems angeordneten Musters in die Bildebene des Abbildungssystems wird ein Abbildungssystem verwendet, bei dem zwischen Objektebene und Bildebene eine Vielzahl optischer Element sowie mindestens eine Pupillenebene angeordnet ist, die Fourier-transformiert zu Feldebenen des Abbildungssystems ist. Im Bereich der Feldebene wird eine winkelselektive optische Filterung mit Hilfe eines optischen Filterelementes durchgeführt, dessen winkelabhängige Filterfunktion als Funktion einer gewünschten ortsabhängigen Filterfunktion für den Bereich der Pupille berechnet ist.</p> |
