| 摘要 |
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Bestimmen der Ausrichtung eines an einem Gegenstand angebrachten optoelektronischen Sensors, der zur Erfassung der Umgebung des Gegenstands mit zumindest einem wiederholend ausgesandten Abtaststrahl in wenigstens einer Abtastebene einen vorgegebenen Winkelbereich von bevorzugt 360 DEG überstreicht, wobei zur Bestimmung der Sensorausrichtung die Lage der Abtastebene im Raum ermittelt wird, indem auf zumindest einer gegenstandsfesten, im Sichtbereich des Sensors liegenden Prüffläche die Lage wenigstens eines Abtaststrahlflecks, bezogen auf eine vorgegebene Sollausrichtung der Abtastebene relativ zu der Prüffläche, bestimmt wird.
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