| 发明名称 |
ETCHANT FOR SELECTIVELY ETCHING PATTERNS IN THIN SILICON DIOXIDE LAYERS AND METHOD OF PREPARING SUCH AN ETCHANT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
CA908020(A) |
申请公布日期 |
1972.08.22 |
| 申请号 |
CAD908020 |
申请日期 |
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| 申请人 |
N.V. PHILIPS GLOEILAMPENFABRIEKEN |
发明人 |
UWE PLESS |
| 分类号 |
C23D1/00;H01L21/311;(IPC1-7):C23D1/00 |
主分类号 |
C23D1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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