发明名称 |
Methods of inspecting a lithography template |
摘要 |
A method for forming imprint lithography templates is described herein. The method includes forming a masking layer and a conductive layer on a substrate surface. The use of a conductive layer allows patterning of the masking layer using electron beam pattern generators. The substrate is etched using the patterned masking layer to produce a template.
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申请公布号 |
US2003205658(A1) |
申请公布日期 |
2003.11.06 |
申请号 |
US20020293919 |
申请日期 |
2002.11.13 |
申请人 |
MOLECULAR IMPRINTS, INC. |
发明人 |
VOISIN RONALD D. |
分类号 |
G03F1/00;G03F7/00;G03F7/09;(IPC1-7):B29C33/00;G03F7/20;G03F7/40;G06K9/00;G01N21/00 |
主分类号 |
G03F1/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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