| 发明名称 | 虚设图案自动生成方法 | ||
| 摘要 | 本发明的虚设图案自动生成方法包括：第一步，准备多个虚设图案元件，它们各自具有规则排列的虚设图案，且根据预定的规则为这些虚设图案元件设置了优先级；第二步，选择多个虚设图案元件之一，并排列属于被选择的虚设图案元件的虚设图案，使其覆盖设置有排列禁止区的掩模图案布局数据；第三步，从排列的虚设图案中，去除接触或覆盖排列禁止区的虚设图案；和第四步，在多个虚设图案互相接触或覆盖的情况下，去除属于优先级较低的虚设图案元件的虚设图案。 | ||
| 申请公布号 | CN1453849A | 申请公布日期 | 2003.11.05 |
| 申请号 | CN03122480.6 | 申请日期 | 2003.04.28 |
| 申请人 | 恩益禧电子股份有限公司 | 发明人 | 松本明 |
| 分类号 | H01L21/82;G06F17/50 | 主分类号 | H01L21/82 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 穆德骏;袁炳泽 |
| 主权项 | 1.一种虚设图案的自动生成方法，包括：第一步，准备多个各自具有规则排列的虚设图案的虚设图案元件，且根据预定的规则为这些虚设图案元件设置优先级；第二步，选择所述多个虚设图案元件中的一个，并排列属于该被选择的虚设图案元件的虚设图案，使其覆盖设置有排列禁止区的掩模图案布局数据；第三步，从排列好的虚设图案中去除接触或覆盖排列禁止区的虚设图案；和第四步，如果所述多个虚设图案互相接触或覆盖，则去除属于优先级较低的虚设图案元件的虚设图案。 | ||
| 地址 | 日本神奈川 | ||