发明名称 |
绝缘体上硅传输门干扰的解决方法 |
摘要 |
N型MOSFET的SOI传输门干扰的解决方法,在FET的栅与体之间连接电阻器以消除干扰状态。此FET制造在衬底中,具有源、漏和栅,场效应晶体管的体是电浮置的,且基本上与衬底电隔离。提供了将FET的电浮置体耦合到栅的高阻通路,致使当栅处于低位时,在能够出现明显的热充电之前,体向低态放电,从而防止了当晶体管处于关断时电荷在体上的积累。高阻通路的电阻最好约为10<SUP>10</SUP>Ωμm除以传输门的宽度。 |
申请公布号 |
CN1127149C |
申请公布日期 |
2003.11.05 |
申请号 |
CN99118748.2 |
申请日期 |
1999.09.16 |
申请人 |
国际商业机器公司 |
发明人 |
安杰斯·布赖恩特;爱德华·J·诺瓦克;米恩·H·通 |
分类号 |
H01L29/78;H01L23/64;H01L21/336 |
主分类号 |
H01L29/78 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
王永刚 |
主权项 |
1.制造于衬底中的具有源、漏和栅的场效应晶体管,其中场效应晶体管的体是电浮置的,且晶体管基本上与衬底电隔离,其特征在于包含:将场效应晶体管的电浮置体耦合到场效应晶体管的栅的高阻通路,致使当栅处于低位时,在能够出现明显的热充电之前,体向低态放电,从而防止当晶体管处于关断时电荷在体上的积累。 |
地址 |
美国纽约 |