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发明名称 Automatic fluorine concentration control system for excimer laser
摘要
申请公布号 EP1075061(A3) 申请公布日期 2003.11.05
申请号 EP20000116029 申请日期 2000.07.26
申请人 CYMER, INC. 发明人 PADMABANDU, GAMARALALAGE G.;DAS, PALASH P.;WATSON, TOM A.;ZAMBON, PAOLO
分类号 H01S3/134;G03F7/20;H01S3/036;H01S3/225;(IPC1-7):H01S3/225 主分类号 H01S3/134
代理机构 代理人
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