| 发明名称 |
METHOD FOR REMOVING PHOTORESIST AND ETCH RESIDUES |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2003262407(A1) |
申请公布日期 |
2003.11.03 |
| 申请号 |
AU20030262407 |
申请日期 |
2003.01.17 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
MASAAKI HAGIWARA;EIICHI NISHIMURA;KOUICHIRO INAZAWA;YASUNORI HATAMURA;VAIDYANATHAN BALASUBRAMANIAM |
| 分类号 |
H01L21/3065;H01L21/00;H01L21/302;H01L21/304;H01L21/31;H01L21/461;(IPC1-7):H01L21/302 |
主分类号 |
H01L21/3065 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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