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发明名称
投影光学系统、其制造方法、曝光装置及曝光方法
摘要
一种投影光学系统,将第一面(R)的影像形成在第二面(W)上。投影光学系统具备以属于立方晶系之结晶材料所形成的至少两个结晶穿透部材。至少两个结晶穿透部材之结晶轴〔lll〕、结晶轴〔100〕以及结晶轴〔110〕中的任何一个结晶轴与光轴问的角度偏差设定在1度以下。萤石透镜的光轴与预定结晶轴之间的角度偏差抑止在预定的容许范围内,投影光学系统在实质上便不曾受到萤石双折射的影响,并且可以确保良好的光学系能。
申请公布号
TW200305789
申请公布日期
2003.11.01
申请号
TW092105748
申请日期
2003.03.17
申请人
尼康股份有限公司
发明人
大村泰弘
分类号
G03F7/20
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
詹铭文;萧锡清
主权项
地址
日本
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