发明名称 镶埋于IC封装基板之转折型电容元件结构
摘要 镶埋于IC封装基板之转折型电容元件结构,其系在一 IC封装基板之内部设置有一镶埋式之电容元件,系由二组转折型之导电元件间填入一高介电系数之介电材料形成一电容元件。本创作将导电元件与介电层设置在同一层,此一电容元件可置放于IC基板之任何一叠层上,其可易于设计及组合,并由电容元件转折数增加平行导电元件与介电层接触面积,以提高电容值。
申请公布号 TW560700 申请公布日期 2003.11.01
申请号 TW091216318 申请日期 2002.10.15
申请人 全懋精密科技股份有限公司 发明人 许诗滨
分类号 H01L29/92 主分类号 H01L29/92
代理机构 代理人 何文渊 台北市信义区松德路一七一号二楼
主权项 1.一种镶埋于IC封装基板之转折型电容元件结构,其系包括有:一内层电路板,系形成于IC封装基板内部;一第一导电元件,该第一导电元件系设置于内层电路板表面,并形成有复数个转折处;一第二导电元件,该第二导电元件系设置于内层电路板表面,并对应第一导电元件以形成有复数个转折处;以及一介电层,该介电层系填充于前述第一、二导电元件间,使该二导电元件可相互隔离。2.如申请专利范围第1项所述之镶埋于IC封装基板之转折型电容元件结构,其中该第一导电元件转折处系呈一垂直弯角之角度。3.如申请专利范围第1项所述之镶埋于IC封装基板之转折型电容元件结构,其中该第二导电元件转折处系呈一垂直弯角之角度。4.如申请专利范围第1项所述之镶埋于IC封装基板之转折型电容元件结构,其中该介电层系为一具有高介电系数之介电材质所构成。5.如申请专利范围第1项所述之镶埋于IC封装基板之转折型电容元件结构,其中第一导电元件与第二导电元件于每一转折区系为互相平行。6.如申请专利范围第1项所述之镶埋于IC封装基板之转折型电容元件结构,其中第一导电元件可以导线与导通孔连接。7.如申请专利范围第1项所述之镶埋于IC封装基板之转折型电容元件结构,其中第二导电元件可以导线与导通孔连接。图式简单说明:图一系为习知电容元件嵌设于IC封装基板之示意图。图二系为习知电容元件镶埋于IC封装基板之示意图。图三系为本创作具有转折型电容元件之立体示意图。图四A系为本创作镶埋于IC封装基板之转折型电容元件之上视图。图四B系为本创作具有转折型之电容元件埋设于一基板之示意图。
地址 新竹市新竹科学工业园区力行路六号