| 发明名称 |
PROCEDE DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT NOTAMMENT POUR L'OPTIQUE, L'ELECTRONIQUE OU L'OPTOELECTRONIQUE ET SUBSTRAT OBTENU PAR CE PROCEDE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR2817394(B1) |
申请公布日期 |
2003.10.31 |
| 申请号 |
FR20000015279 |
申请日期 |
2000.11.27 |
| 申请人 |
S.O.I.TEC SILICON ON INSULATOR TECHNOLOGIES |
发明人 |
LETERTRE FABRICE;GHYSELEN BRUNO |
| 分类号 |
H01L33/00;C30B25/02;C30B25/18;H01L21/04;H01L21/762;(IPC1-7):H01L21/328;H01L21/20 |
主分类号 |
H01L33/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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