发明名称 Transferverfahren zur Herstellung mikrostrukturierter Substrate
摘要 Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines mit einer Mikrostruktur versehenen Substrats über ein Transferverfahren beschrieben, bei dem man eine Prägevorrichtung in eine Beschichtungszusammensetzung eindrückt, die Prägevorrichtung aus der Beschichtungszusammensetzung entfernt, wobei die Beschichtungszusammensetzung in den vertieften Stellen der Prägevorrichtung verbleibt, die Prägevorrichtung auf das Substrat aufdrückt, die mit der Prägevorrichtung auf das Substrat übertragene Beschichtungszusammensetzung härtet und die Prägevorrichtung entfernt, wobei die Beschichtungszusammensetzung ein organisch modifiziertes anorganisches Polykondensat oder dessen Vorstufen und nanoskalige anorganische Feststoffteilchen umfasst. DOLLAR A Die nach diesem Verfahren erhältlichen, mit einer Mikrostruktur versehenen Substrate eignen sich insbesondere für optische oder mikromechanische Anwendungen.
申请公布号 DE10217089(A1) 申请公布日期 2003.10.30
申请号 DE20021017089 申请日期 2002.04.17
申请人 INSTITUT FUER NEUE MATERIALIEN GEMEINNUETZIGE GMBH 发明人 GIER, ANDREAS;MENNIG, MARTIN;OLIVEIRA, PETER W.;SCHMIDT, HELMUT
分类号 B81C99/00;G03F7/00;(IPC1-7):B81C1/00;C09D183/04 主分类号 B81C99/00
代理机构 代理人
主权项
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