Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, positiv arbeitende lichtempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zur Bebilderung der Druckplatte,申请号DE1998610242T-传众专利搜索

发明名称	Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, positiv arbeitende lichtempfindliche Flachdruckplatte und Verfahren zur Bebilderung der Druckplatte
摘要
申请公布号	DE69810242(T2)	申请公布日期	2003.10.30
申请号	DE1998610242T	申请日期	1998.10.27
申请人	MITSUBISHI CHEMICAL CORP., TOKIO/TOKYO	发明人	MURATA, AKIHISA;NAGASAKA, HIDEKI
分类号	B41C1/10;B41M5/36;B41M7/00;(IPC1-7):B41C1/10	主分类号	B41C1/10
代理机构		代理人
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