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Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Aufnahme von Substraten (S), insbesondere Wafern oder Siliziumsubstraten, zur Herstellung photovoltaischer Elemente, mit zwei einander gegenüberliegenden Wänden (1), wobei mindestens ein die Wände (1) verbindendes Trägerelement (2, 3) vorgesehen ist, wobei das Trägerelement (2, 3) zum Halten darauf abgestützter Substrate (S) in einer vertikalen, parallel zu den Wänden (1) orientierten Stellung mit Haltemitteln (5) versehen ist. Um ein Aufschwimmen der Substrate in einem Behandlungsbad zu verhindern, ist erfindungsgemäß vorgesehen, dass die Wände (1) des Weiteren durch mindestens ein Trägergegenelement (4) verbunden sind, und dass das Trägergegenelement (4) bezüglich des Trägerelements (2, 3) so angeordnet oder ausgebildet ist, dass damit eine Bewegung der Substrate (S) in Vertikalrichtung (V) begrenzt wird.
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