METHOD AND DEVICE FOR THE CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING OF WORKPIECES

摘要

Verfahren zum Transportieren, chemisch-mechanischen Polieren und Trocknen von Werkstücken, insbesondere Siliciumwafer in einem abgeschlossenen Reinraum mit den folgenden Schritten: die Werkstücke werden von mindestens einer Transfervorrichtung aus einer Be- und Entladestation entnommen und auf eine Zwischenstation übergeben; die Werkstücke werden von mindestens einem Polierkopf einer Poliervorrichtung von der Zwischenstation aufgenommen, zu einem Polierteller der Poliervorrichtung transportiert und unter Drehung des Polierkopfes gegen den sich drehenden Polierteller gehalten; nach dem Polieren werden die Werkstücke von dem Polierkopf zur Zwischenstation zurücktransportiert, vom Polierkopf gelöst und in der Zwischenstation gereinigt und/oder chemisch behandelt; die gereinigten und/oder chemisch behandelten Werkstücke werden von der Zwischenstation wahlweise zu einer zweiten Poliervorrichtung oder zu einer Wasch- und Trockenvorrichtung transportiert und in dieser gewaschen und getrocknet; die gewaschenen und getrockneten Werkstücke werden von der Transfervorrichtung zur Be- und Entladestation zurücktransportiert; vor jeder Aufnahme eines Werkstücks wird der Polierkorp gereinigt.