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Ein Verfahren zur Herstellung eines Matrixsubstrats für eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung weist folgende Schritte auf: Ausbilden einer Gateleitung, eines Gateanschlusses und einer Gateelektrode auf einem Substrat, Ausbilden einer Gateisolierungsschicht auf der Gateleitung, der Gateelektrode und dem Gateanschluss, Ausbilden einer aktiven Schicht auf der Gateisolierungsschicht, Ausbilden einer ohmschen Kontaktschicht auf der aktiven Schicht, Ausbilden einer Datenleitung, eines Datenanschlusses, einer Sourceelektrode und einer Drainelektrode auf der ohmschen Kontaktschicht, Ausbilden einer Pixelelektrode auf der Sourceelektrode und der Drainelektrode, wobei die Pixelelektrode die Drainelektrode kontaktiert, Ausbilden einer ersten Passivierungsschicht auf dem Substrat einschließlich der Pixelelektrode, Ausbilden einer zweiten Passivierungsschicht auf der ersten Passivierungsschicht, wobei die zweite Passivierungsschicht die erste Passivierungsschicht über dem Gateanschluss und dem Datenanschluss freilegt, und Strukturieren der von der zweiten Passivierungsschicht freigelegten ersten Passivierungsschicht zum Freilegen des Gateanschlusses und des Datenanschlusses.
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