| 发明名称 | 在制造半导体器件过程中清洗半导体晶片的波形花纹结构的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种清洗半导体晶片的波形花纹结构的方法，其包括用纯水处理已被抛光的晶片的步骤；和随后不用纯水处理晶片的步骤。 | ||
| 申请公布号 | CN1452219A | 申请公布日期 | 2003.10.29 |
| 申请号 | CN03122575.6 | 申请日期 | 2003.04.21 |
| 申请人 | 恩益禧电子股份有限公司 | 发明人 | 久保亨 |
| 分类号 | H01L21/302;B08B3/00 | 主分类号 | H01L21/302 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 丁业平;王维玉 |
| 主权项 | 1.一种清洗半导体晶片的波形花纹结构的方法，其包括：用纯水处理已被抛光的晶片的步骤；和随后不用纯水处理晶片的步骤。 | ||
| 地址 | 日本神奈川 | ||