发明名称 带有焊料层的半导体片
摘要 一带有扩散势垒层(4)的硅半导体片(1)备有一焊料层,优选备有一锡层并且被放置在一金属基片(2)上并且通过加热到约250℃以上直接,即不需要其它的添加剂与基片焊接在一起。
申请公布号 CN1126171C 申请公布日期 2003.10.29
申请号 CN97104969.6 申请日期 1997.02.19
申请人 西门子公司 发明人 M·施内冈斯;H·许布纳
分类号 H01L23/48 主分类号 H01L23/48
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 叶恺东;傅康
主权项 1、由硅构成的半导体片(1),该半导体片通过一组金属层与金属基片(2)焊接在一起,该金属层组焊接前从硅半导体片开始朝基片方向依次包括一铝层(3)和一扩散层阻挡层(4),其特征在于:在扩散阻挡层上附着有一层焊料层(5),所述焊料层(5)是一层锡、铅或镓。
地址 联邦德国慕尼黑