发明名称 | 发射控制设备和成像设备 | ||
摘要 | 以稳定方式和低成本提供一种能够可变地控制设置光束的强度的发射控制设备,而不增大电路尺寸。半导体激光二极管LD发射光束。光电二极管PD探测从半导体激光二极管LD发射的光束的强度。驱动电路把驱动电流供给到半导体激光二极管LD。切换部分根据一个视频信号切换驱动电流。输入端接收脉冲宽度调制信号。平滑电路平滑接收的脉冲宽度调制信号。激光驱动器根据由平滑电路得到的平滑电压控制驱动电流的值,从而光束的探测强度等于一个目标强度。 | ||
申请公布号 | CN1452030A | 申请公布日期 | 2003.10.29 |
申请号 | CN03109844.4 | 申请日期 | 2003.04.11 |
申请人 | 佳能株式会社 | 发明人 | 望月正贵;富冈康弘 |
分类号 | G03G21/00;H05B43/00 | 主分类号 | G03G21/00 |
代理机构 | 北京市金杜律师事务所 | 代理人 | 张维 |
主权项 | 1.一种发射控制设备,包括:发光元件,发射一个光束;光接收元件,探测从所述发光元件发射的光束的强度;驱动器件,把驱动电流供给到所述发光元件;切换器件,根据一个视频信号切换驱动电流;接收端,接收一个脉冲宽度调制信号;平滑器件,平滑接收的脉冲宽度调制信号;及控制器,根据由所述平滑器件得到的平滑电压控制驱动电流的值,从而光束的探测强度等于一个目标强度。 | ||
地址 | 日本东京都 |