发明名称 |
图案形成方法 |
摘要 |
本发明可以局部地修正感光性树脂图案的异常,除去重复加工基板,降低制造成本。是包含,在基板上形成被加工膜的步骤S11、在被加工膜的主面上形成抗蚀剂膜的步骤、在抗蚀剂膜上曝光所希望的图案的步骤、显影抗蚀剂膜形成抗蚀剂图案的步骤S12、检查抗蚀剂图案的尺寸或者形状的异常的步骤S13、对由S13检测出的异常位置实施修正处理的步骤S14、用修正后的抗蚀剂图案选择蚀刻被加工膜的步骤S15的图案形成方法,在S13以及S14中使用把DUV光作为光源的相同的光学装置连续进行S13和S14,并且在S13中向抗蚀剂表面提供氮气,在S14中向抗蚀剂表面提供氧气。 |
申请公布号 |
CN1452215A |
申请公布日期 |
2003.10.29 |
申请号 |
CN03109850.9 |
申请日期 |
2003.04.11 |
申请人 |
株式会社东芝 |
发明人 |
伊藤信一;高桥理一郎 |
分类号 |
H01L21/027;H01L21/00;G03F7/00 |
主分类号 |
H01L21/027 |
代理机构 |
北京市中咨律师事务所 |
代理人 |
李峥;于静 |
主权项 |
1.一种图案形成方法,其特征在于,具备:在被处理基板的主面上形成感光性树脂膜的工序;在上述感光性树脂膜上曝光所希望的图案的工序;显影上述感光性树脂膜形成感光性树脂图案的工序;检查上述感光性树脂图案的尺寸或者形状的异常的检测工序;对由上述检查工序检测出的异常位置实施修正处理的修正工序;上述修正工序,包含对上述感光性树脂图案的异常位置照射上述感光性树脂具有吸收性的波长的光,使该图案的形状改变的工序。 |
地址 |
日本东京都 |