发明名称 | 投影光学系统、曝光装置及曝光方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种具有较大的像侧数值孔径及投影视野且面对振动时的机械安定性等优良的投影光学系统。包括形成第1面(R)的第1中间像的第1成像光学系统(G1)、有凹面反射镜(CM),基于第1中间像发出的光束形成第2中间像的第2成像光学系统(G2)、基于第2中间像发出的光束,在第2面(W)上形成最终像的第3成像光学系统(G3)。而且关于凹面反射镜的有效直径(Ec)、第1面和第2面的距离(L)、凹面反射镜和基准光轴(AX)的距离(H),满足所定的条件式。 | ||
申请公布号 | CN1452015A | 申请公布日期 | 2003.10.29 |
申请号 | CN03121921.7 | 申请日期 | 2003.04.14 |
申请人 | 尼康株式会社 | 发明人 | 大村泰弘 |
分类号 | G03F7/20;G02B13/18 | 主分类号 | G03F7/20 |
代理机构 | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人 | 王学强 |
主权项 | 1.一种投影光学系统,包括:在把第1面的图像形成于第2面上的投影光学系统中,用以形成该1面的第1中间图像的第1成像光学系统、至少有1个凹面反射镜,以根据来自该第1中间图像的光束形成第2中间图像的第2成像光学系统、根据来自该第2中间图像的光束,在该第2面上形成最终图像用的第3成像光学系统,其特征在于:当该凹面反射镜的有效直径为Ec,该第2面上的投影视野的有效直径为Ic,该投影光学系统的像侧数值孔径为Na时,满足Ec/(Na×Ic)<10的条件。 | ||
地址 | 日本东京都 |