| 发明名称 |
AUTOMATIC VALVE CONTROL SYSTEM IN PLASMA CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM AND CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM FOR DEPOSITION OF NANO-SCALE MULTILAYER FILM |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2003235486(A1) |
申请公布日期 |
2003.10.27 |
| 申请号 |
AU20030235486 |
申请日期 |
2003.04.07 |
| 申请人 |
LEE, JUNG JOONG |
发明人 |
SEUNG, HOON LEE;JUNG JOONG LEE;JU WAN LIM |
| 分类号 |
C23C16/34;C23C16/44;C23C16/455;(IPC1-7):C23C16/455 |
主分类号 |
C23C16/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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